真空鍍膜
1、電阻蒸發(fā)鍍
2、電子槍蒸發(fā)鍍
3、二級濺射
4、二級磁控濺射
5、三級磁控濺射
6、中頻雙脈沖磁控濺射
7、陰極弧
8、空心陰極
9、PECVD等離子體化學氣相沉積
1、電阻蒸發(fā)鍍：在真空條件下，通電加熱或電子槍加熱形式把被鍍材料氣化，沉積在被鍍物體上叫蒸鍍。
2、電子槍蒸發(fā)鍍：在真空條件下，利用加速電子轟擊鍍膜材料加熱蒸發(fā)，并形成膜。這也是蒸發(fā)鍍的一種。特點為：電子槍發(fā)出電子束具有極高能量密度，加熱溫度可達3000-6000℃，可以蒸發(fā)難溶金屬或化合物，目前廣泛應用在光學鍍膜上。
3、二級濺射：在真空條件下，將被鍍材料物體（物體）帶高負電壓，室體帶正電壓形成回路。二級放電將被鍍物體濺射下來附著在被鍍物體上形成二級濺射。
4、二級磁控濺射：在二級濺射基礎(chǔ)上，把陰極加上磁場。磁場與二級電場形成正交電磁場。在放電過程中電子在靶表面做螺旋管滾動，增強等離子體密度從而提高濺射速率。因此磁控濺射的濺射速率遠高于二級濺射。
5、三級磁控濺射：是在磁控濺射基礎(chǔ)上再另一對電極形成三級濺射。三級濺射比磁控濺射離化率更高，同時對膜層附著力，鍍膜質(zhì)量都有所提高。
6、中頻雙脈沖磁控濺射：是在磁控濺射基礎(chǔ)上將直流電源改為中頻雙脈沖電源，同時1臺電源帶1對磁控靶，兩靶之間形成回路，這種方法濺射叫中頻雙脈沖磁控濺射鍍膜，它與磁控濺射相比有很多優(yōu)越性能，尤其是在鍍反應膜、氧化膜等都具有不易中毒；靶可以長期穩(wěn)定工作?，F(xiàn)在磁控濺射選用較多方法是中頻雙脈沖磁控濺射。裝飾涂層，燈具，工具以及汽車行業(yè)等方面都有廣泛的應用。
7、陰極弧：陰極?。ǘ嗷。┠壳皬V為人們使用。工作原理是在真空條件下，通過陰極產(chǎn)生弧光放電，將被鍍物蒸發(fā)+濺射鍍到工件表面上（基片上），這種鍍膜離化率高，被稱為離子鍍的一種?，F(xiàn)在市面上普遍使用于多弧靶頭，一般直徑?60-?100。新型有?160，還有矩形、柱狀陰極弧等廣為使用。
8、空心陰極：在真空條件下，用空心陰極等離子電子束作為蒸發(fā)源，定向打在坩堝中，在坩堝中放入鍍膜材料。材料被蒸發(fā)鍍在被鍍物體上，這種鍍膜的過程中帶電粒子較多。因此多用來鍍制工具、模具、道具等。
9、等離子體化學氣相沉積（PECVD）
在真空條件下通過附加電場產(chǎn)生等離子體，這時在通入反應氣體、液體等。在真空室中電離后附著在被鍍物體表面的過程。目前PECVD用法越來越廣，用它來取代CVD。因為PECVD不用CVD那么高溫度就可以達到更好膜層，因此越來越被廣大用戶喜歡。
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